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        日本Tem-Tech半導體CMP漿料用壓力傳感器SE3000:高精度耐腐蝕

        發布時間: 2025-07-31  點擊次數: 245次
        在半導體制造過程中,化學機械拋光(CMP)工藝對壓力控制的精度和可靠性有著要求。日本Tem-Tech的SE3000壓力傳感器憑借其高精度、耐腐蝕的特性,成為CMP漿料壓力監測的理想選擇。

        高精度測量

        SE3000壓力傳感器具備高精度的測量能力,其綜合精度可達±1%FS(滿量程),能夠確保在CMP工藝中對漿料壓力的精確控制。這種高精度測量對于保證晶圓表面的平整度和拋光質量至關重要。

        耐腐蝕設計

        該傳感器采用PFA(全氟烷氧基)一體成型的氣球結構,接觸液部分未使用金屬或O形圈,因此非常適合強酸和強堿等腐蝕性流體的測量。這種設計不僅解決了傳統氣球結構可能導致的污染和離子問題,還提高了傳感器在惡劣化學環境中的使用壽命。

        廣泛的測量范圍與靈活的輸出選項

        SE3000支持多種測量范圍,包括-0.1至1MPa,能夠滿足不同CMP工藝的壓力監測需求。此外,該傳感器還提供多種輸出信號選項,如4~20mADC(2線式)、0~5VDC、1~5VDC、0~10VDC(3線式),方便與各種控制系統集成。

        可靠性與維護

        SE3000具備堅固的雙層隔膜設計,能夠承受高達1MPa的壓力。同時,傳感器配備了泄漏指示器,可及時通知用戶更換時間,確保設備的可靠運行。

        應用場景

        SE3000廣泛應用于半導體制造中的CMP工藝,用于監測漿料的壓力,確保拋光過程的穩定性和一致性。其耐腐蝕特性和高精度測量能力使其成為半導體制造中的監測設備。

        總結

        日本Tem-Tech的SE3000壓力傳感器以其高精度、耐腐蝕的特性,為半導體CMP工藝提供了可靠的解決方案。無論是應對強酸強堿的化學環境,還是實現精確的壓力控制,SE3000都能滿足用戶對高質量半導體制造的需求。


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