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日本acti-ve臺式拋光機ACT-220AII：實驗室高效拋光實用技術

發布時間： 2025-09-23　　點擊次數： 111次

在材料科學、半導體制造和光學研究等領域，高精度的拋光工藝是確保實驗和生產成功的關鍵因素之一。日本acti-ve推出的ACT-220AII臺式拋光機以其性能和廣泛的應用，成為實驗室和工業生產的理想選擇。
突出特點
高精度控制：ACT-220AII提供0-7000rpm的旋轉速度范圍，精度高達±1rpm，確保薄膜的均勻性，滿足不同材料和工藝的需求。
多段式程序控制：具備10步程序控制和100種模式記憶功能，可靈活設置不同工藝參數，適應多樣化的實驗和生產需求。
安全保護：配備安全蓋，帶有磁性傳感器，當安全蓋打開時，無法啟動程序，旋轉中打開安全蓋，機器將自動停止旋轉，確保操作安全。
真空吸附：真空吸附功能可牢固固定基板，防止在拋光過程中移位，提高拋光效果的穩定性。
緊湊設計：外形尺寸為W250×D330×H272mm，重量約18kg，占地面積小，便于在實驗室中靈活擺放。
應用領域
半導體制造：用于半導體晶片的拋光，確保表面平整度和清潔度，提高芯片的性能和可靠性。
太陽能電池生產：在太陽能電池制造過程中，對硅片進行拋光處理，提升光電轉換效率。
光學透鏡加工：對光學透鏡進行高精度拋光，提高透鏡的光學性能，減少光散射和反射。
納米技術與生物醫學：在納米材料和生物醫學研究中，對樣品進行精細拋光，為后續的分析和實驗提供高質量的樣品。
液晶顯示器制造：用于LCD面板的拋光，確保顯示效果的均勻性和清晰度。
實驗與研究：在高校和科研機構的實驗室中，用于各種材料的拋光實驗，為科研工作提供有力支持。
日本acti-ve臺式拋光機ACT-220AII以其高性能、高精度和廣泛的應用場景，成為實驗室和工業生產中的設備。無論是半導體制造、光學加工還是納米技術研究，ACT-220AII都能提供可靠的拋光解決方案，助力科研和生產的發展。

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